离子注入机

离子注入机

离子注入机是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术,其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型,可以满足浅结、低温和精确控制等要求,已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。

  • 材料表面改性离子注入机

    材料表面改性离子注入机

    采用固态金属离子源,先分析后加速结构,水平偏转7°的双向电扫描,具备液氮冷却和灯管加热的高、低温多工位靶台,片夹式手动装卸片

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  • SiC高温高能离子注入机(M56700-1/UM)

    SiC高温高能离子注入机(M56700-1/UM)

    SiC高温高能离子注入机具有自主知识产权核心技术,先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,新型金属离子源和单片式高温靶台,固态Al离子源,满足高能高温状态下注Al、N..

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  • SiC高温高能离子注入机(M56700-2/UM)

    SiC高温高能离子注入机(M56700-2/UM)

    SiC高温高能离子注入机具有自主知识产权核心技术,先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,新型金属离子源和单片式高温靶台,固态Al离子源,满足高能高温状态下注Al、N..

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  • 中束流离子注入机

    中束流离子注入机

    中束流离子注入机采用先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,采用间热式长寿命离子源,等离子淋浴,单片式静电吸附靶台,真空机械手传输,适用于4到6英寸分立器件及集..

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