>> >> 产品介 >> 液相外延炉
   

 
 
 
 

主要用途

液相外延系统主要用于化合物半导体器件制造过程中外延膜的液相外延生长,是

光电子器件研制、生产中的关键工艺装备。
 

技术特点

自动化程度高,除装片、取片外,整个工艺过程均由工业计算机控制自动完成。

工艺操作可由机械手完成。

机械手运动定位精度小于0.1mm。

炉温稳定、重复性好,恒温区精度优于±0.5℃,降温速率在0.1~6℃/min范围内可调节,

降温过程中恒温区平坦度佳,斜率线性度好。

冷却功能完善。

保护功能周全可靠。

设备可靠性高,重复性好。

主要部件

1)净化、机械手操作部分

·精密的机械手操作

·机械手定位精度高

·提供洁净的局部操作平台

2)高精度、高稳定性、高分辩率的恒温区温度及优良的降温平坦度

·恒温区温度精度高

·恒温区温度单点稳定性好

·降温速率可自动调节

·降温过程恒温区温度的平坦好

3)自动控制系统

·计算机自动控制

·新颖完善的软件平台

·可存储100多条工艺曲线

·恒温区自动调整

·串级控制控制实际工艺温度

·周全可行的保护功能

供货系列

 

M8611-1/UM型GaP液相外延系统

 

M8610-1/UM型、M8608-1/UM型GaAs液相外延系统
  M8609-1/UM型GaInAsP/InP液相外延系统
  M8607-1/UM型HgcdTe/cdZnTe液相外延系统
亦可根据用户要求研发所需品种
     

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