微电子与半导体装备

微电子与半导体装备

中国电科48所半导体工艺设备事业部专注于微电子与半导体装备的研发和制造,设备涵盖薄膜制备、掺杂、刻蚀、烧结、激光焊接等领域,是四十八所半导体设备研发的核心力量。目前研发设备已广泛应用于电子、船舶、兵器

  • 材料表面改性离子注入机

    材料表面改性离子注入机

    采用固态金属离子源,先分析后加速结构,水平偏转7°的双向电扫描,具备液氮冷却和灯管加热的高、低温多工位靶台,片夹式手动装卸片

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  • SiC高温高能离子注入机(M56700-1/UM)

    SiC高温高能离子注入机(M56700-1/UM)

    SiC高温高能离子注入机具有自主知识产权核心技术,先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,新型金属离子源和单片式高温靶台,固态Al离子源,满足高能高温状态下注Al、N..

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  • SiC高温高能离子注入机(M56700-2/UM)

    SiC高温高能离子注入机(M56700-2/UM)

    SiC高温高能离子注入机具有自主知识产权核心技术,先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,新型金属离子源和单片式高温靶台,固态Al离子源,满足高能高温状态下注Al、N..

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  • 中束流离子注入机

    中束流离子注入机

    中束流离子注入机采用先分析后加速的双磁铁结构,具有平行束技术,采用间热式长寿命离子源,等离子淋浴,单片式静电吸附靶台,真空机械手传输,适用于4到6英寸分立器件及集..

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  • 扩散氧化炉

    扩散氧化炉

    扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等工艺。水平管式炉的设计考..

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  • 真空退火炉

    真空退火炉

    真空退火炉是真空技术与电炉加热技术相结合的热处理设备,由于设备可提供清洁无杂质的高真空状态,加热温度均匀且能够精确控制,因此工艺条件优越,工件质量优良,成品率高..

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